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第三百一十二章 40n工艺的突破（第2页）

干式光刻机在193nm波长下的极限就是65nm，除非找到波长更短的光。

新芯光刻机从2000年，林本坚正式加入新芯光刻机之后，他作为新芯光刻机的CEO就开始做浸润式光刻机的理论研究，以及少数论证实验。

在2003年周新回国前夕和林本坚长谈后，周新的支持让新芯光刻机正式开始浸润式光刻机的研究，周新利用自己的人脉关系，找到蔡司背后的国际资本集团，通过一系列的利益交换，让蔡司全力配合新芯光刻机的研发。

进入到2006年之后，新芯光刻机基于浸润法的光刻机已经研发出了样品，当世界上最先进工艺是65nm时，通过浸润法把波长从193nm缩短到134nm，顺利把芯片的最先进制程从65nm推进到了40nm。

新芯内部由关建英、胡正明、林本坚、周新和梁孟松搞了一个小型的庆祝晚宴，来庆祝新芯科技把极限制程从65nm推进到了40nm。

对新芯来说，这就是一座金山，并且技术的优势能让Mphone比市面上其他手机领先一代。

Matrix有三年时间没有发新机了，其他手机巨头们陆续攻克了多点触控触摸屏技术。

最初各家手机厂商还有一些别的想法，想在智能手机领域搞一些创新，等这些创新陆续失败，哪怕是被诺基亚寄予厚望的N97在市场上同样表现平平，而微软收购Plam后照着Mphone2推出的Plam1大获成功后。

去年各大手机厂商推出的智能机都照着Mphone2的样子，尽可能1比1还原，这也让Mphone2失去了原本的优势，每年推出新配色很难再吸引用户换机。

这不代表Mphone2在过去一年时间里销量不好，作为智能手机行业绝对的王者，即便Mphone没有更新，销量依然占据榜首，只是说因为Matrix迟迟不推出Mphone3，导致老用户缺乏更换新机的动力。

光刻机工艺突破到40nm，加上屏下指纹技术成熟，周新知道Matrix再次给世界带来震撼的时候到了。

“林叔，这两年辛苦了，新芯光刻机的成功能让业界重新认识新芯。

新芯光刻机也是时候改变现有格局了。”他们四个都不喝酒，晚上喝茶会睡不着，所以大家杯子里都是水，周新连杯子都没有举，纯在干聊。

林本坚很感慨：“我虽然知道这条技术路线一定可以，我从来没有怀疑过自己。

但是真正在做出来的这一刻，还是让我很感慨，有种自己人生四十年的坚持终于获得了回报。”

林本坚在离开IBM之后，他是属于被IBM内退，因为他所坚持的技术路线不被IBM光源这个研究方向的负责人看好，有点被赶出来的意思。

在场的四个人里，只有胡正明还好，伯克利一直对他不错，其他三个人多多少少都有点办公室政治斗争的失败者。

在成功研发浸润式光刻机之后，林本坚的职业生涯迎来了某种程度上的圆满。

周新说：“我一直相信这一点，新芯天生具备成功的基础。

和ASML相比，我们有着芯片生产的制造环节，这种优势让我们在测试浸润式的时候更有优势。”

梁孟松作为去年才加入新芯的新人，因为其在台积电的战绩惊人以及胡正明学生的身份，周新给予了他很大的信任，几乎是加入新芯后的第一时间就让他担任了新芯芯片制造环节的负责人。

同时因为梁孟松身上有竞业协议，新芯为他缴纳了高达两千万美元的巨额违约金。

梁孟松加入后也不孚众望，短短半年时间让新芯在90nm制程中再度实现技术突破和良品率的提升。

同时他加入后一手主导了新芯在狮城65nm生产线的建设，目前也即将投产。

林本坚说：“主要还是这条路线确实可行，路线可行，只要投入时间和足够的资源迟早能够看到成果。

我们算是比较幸运的了，能够赶在尼康和佳能在做出157nm光源前顺利完成浸润式光刻机的研发。”

新芯选择的是后世ASML的技术路线，也就是浸润式光刻机，而尼康、佳能包括ASML在当下，都选择的是研究波长更短的光源。

后世在ASML推出浸润式光刻机，成功把芯片制程推进到40nm之后不久，尼康就顺利研发出来了基于157nm光源的干式光刻机。

可惜太晚了，那个时候ASML已经占据了40nm光刻机的主流市场，尼康一步慢步步慢，丧失了整个光刻机市场。

现在是最好的时间，光源还没有实现突破，新芯已经率先实现突破，直接绕过了65nm进入到40nm制程。

胡正明说：“我们速度需要快，尽可能快的推向市场。

同时我们要把新芯的光刻机推销出去，之前新芯虽然做光刻机，但是在全球市场上并没有我们的名号。

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