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第九十二章 我看这局面他卿云又能怎么破（第4页）

而这批技术的最新时间点是1994年的。

按照这个时间线以及瓦森纳协定的精神，1993年问世的0.35微米工艺，我们是完全可以在华国生产，而不用担心阿美莉卡的长臂管辖。”

他顿了顿，眼中闪过一丝精光，“而半年前，华国的技术水平还停留在1984年的1.25微米水平。

我们就算他们能采取跳跃式发展，也不可能在短短一年内完成1微米、0.8微米、0.6微米、0.35微米四代工艺的跨越。

说到这里，他哈哈大笑了起来，“更何况他们还在使用436nmG线光源，而且还是接触式路径。”

江尚义听后也露出了笑容。

这是他们曾经走过的老路，是再熟悉不过的。

接触式路径，掩模直接贴在硅片上进行光刻，不仅容易造成污染，而且掩模的使用寿命也相对较短。

后来的接近式光刻技术对此进行了改进，通过在掩模和硅片之间形成一层薄薄的气垫，使两者不再直接接触，提高了良率也提升了掩膜的寿命，这大大的降低了成本。

但气垫的存在，又会影响成像的精度，所以G线光源的最高制程也只能达到0.35微米工艺。

而G线光源的下一代是波长365nm的I线光源，其最高制程工艺可以达到0.25微米。

再往下发展，就必须采用第三代光源，即波长248nm的KrF（氟化氪）准分子激光，它能够实现130nm的制程。

至于第四代光源，则是目前最先进的193nmArF（氟化氩）准分子激光。

按照林本坚的理论，这种光源通过浸入式技术，理论上可以将制程推进到22nm，甚至在孙元成根据DavidMann公司的重复曝光理论推测，还能更低。

章忠谋耸了耸肩，语气中带着浓浓的不屑，“从G线到I线，我们用了整整16年的时间。

即便华国存在所谓的后发优势，他们也不可能在短短半年内就达到那样的技术水平。

况且，半导体产业是一个高度复杂的综合性产业，制造一颗芯片需要经过1000多个不同的流程，整个生产系统由上千个不同的部件组成，仅一个光刻机就包含了8万多个精密零件。

而这些零部件，他们大半都没法自产，到时候随便哪个环节卡他们一下，他们的光刻设备就出不来的。

所以，尚义，你说，在如此短的时间内，他们真的有可能达到0.35微米的工艺水平吗？

只要他们没法在我投产之前，也就是一年后达到0.35微米的水平，且成本和我一致，那他们就没有机会了。

因为这是一个生意！

市场没道理放弃便宜的产品而去使用贵的道理，这完全不符合商业逻辑。

而我在国内建厂，拉着地方机关引进了国有资本，那就算讲政治逻辑，我们也不会被剔除出去的。

说实话，我还希望倒是他们讲政治的，我们有国资在里面，炎黄集团是民营，我看这局面他卿云又能怎么破！”

章忠谋的话语中透露出强烈的自信，让江尚义也不得不点头承认，他的担心是多余的。

“所以我们牢牢把控住0.35微米这个关键节点。

也就是说，不向他们提供248nmKrF氟化氪准分子激光光刻技术和配套工艺技术，我们只在内陆生产0.35微米制程以上的产品。

那么即便他们到时候窃取或强行占据了我们的设备和工艺，又能有什么实际用处呢？”

眼神里闪过一抹狠辣，章忠谋呵呵冷笑着，“尚义，我的目标非常明确，就是要将0.8微米、0.6微米和0.35微米这三个制程的产品价格压到白菜价，利用我们庞大的规模和成本优势，彻底拖垮他们。

这个世界上没有比内地更低的产业生产成本了，只要牢牢的占据内地，我们可以在世界上立于不败之地。

而后，便是以待天时！只要我们还活着，什么都是有可能的！”

……

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